sputtering hollow cathode discharge

  • 释义

    溅射型空心阴极放电

数据更新时间:2025-11-14 22:53:22
1、

An argon ion source used for sputtering deposition has been successfully developed based on the construction of hollow cathode connecting hollow anode and the technologies of thermal cathode electron emission arc discharge, plasma magnetic confinement and ion extracting on a curving surface.

本文采用空心阴极空心阳极结构,用热阴极电子发射弧放电驱动并用磁场约束产生等离子体,用曲面发射引出离子束,研制成了氩气放电溅射离子源;

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